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半导体涂胶显影机

　　半导体设备涂胶显影机是一种将差别工艺制程的机台整合在一起，作为一个整体的制程装备
。该设备由载片系统、传送系统和制程系统三部分组成
。典范的半导体集束型装备Track机是半导体前道工序设备中黄光区设备之一，其主要功效是光刻胶在晶圆外貌的涂敷和显影
。随着半导体装备光刻机新技术的生长，光刻机产能也在快速提高，特别是ASML公司的TWINSCAN技术以及未来基于古板TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术的成熟，更进一步提高了光刻机的产能，而涂胶显影设备作为与之协作的连线设备，为了匹配高产能力，半导体生产线也对机械人晶圆传送要领提出了更为严苛的要求
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　　半导体工艺是半导体行业的焦点技术之一，半导体装备制造商的客户都有其独吞工艺设计
。这些工艺上带来的特定要求将会给传片系统带来差别水平的影响
。鉴于这种特定要求是用户焦点技术，不但不可推广使用，并且还要求装备制造商为其客户保密，因此允许客户对传送路径的适度修改是比较好的解决步伐之一，这样的利益是制止了调理算法因为设计盲区造成装备的某些加工单位较低的利用率，提高了半导体装备对半导体工艺的适应性
。由于这种调解完全由客户自主完成，也有利于其焦点技术的；
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