独立超声喷涂机台

　　M 型架构产品满足半自动半导体超声喷涂光阻工艺生产需要，单位？榛杓，可选配多种喷胶功效部件，满足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等差别喷涂光阻工艺生产的客户需求。
　　. 适用于 6 英寸，8 英寸或 12 英寸晶圆≤500mm 方片等产品
　　. 基材：硅晶圆、玻璃、陶瓷、柔性薄膜、金属等
　　. 适用于胶膜厚度 0.8-20um 喷涂工艺产品生产
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　　. 图形化的人机交互界面